AI与半导体

光刻设备

EUV光刻设备垄断增长周期:先进制程(2nm/3nm)扩产推动EUV市场规模至$30B+,ASML作为全球唯一供应商垄断地位强化,2025-2030年光刻设备营收CAGR预计15-20%,但地缘风险(对华出口管制)与高价格($150M+/台)可能限制渗透速度

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信心分

判断回溯

T+1证伪-3.4%T+5证伪-3.5%T+20待判定

传导链

High-NA EUV光刻设备进入量产阶段 → 推动先进制程从2nm向1.4nm/埃米级演进 → ASML垄断地位强化(High-NA单台价格$350M+,全球仅ASML供应) → 光刻设备营收从$30B扩展至$40-50B(2025-2030)

受影响个股

由传导链推断的相关标的、影响逻辑与近 30 日走势

美股

ASML

直接相关 · 高敏感5日 +6.9% 20日 -1.6%

受'EUV需求增长'环节直接利好(全球唯一EUV供应商),营收与利润率直接受益于出货量与单价提升,利好,高敏感度因100%市场份额与定价权

TSM

TSMC

客户 · 中敏感5日 +3.9% 20日 -3.9%

受'EUV设备成本上升'环节影响(单台$150-300M,占资本开支20-30%),但先进制程溢价可转嫁成本,利好(产能竞争力提升)但中等敏感度因成本压力

港股

0981.HK

中芯国际

客户 · 高敏感5日 +5.8% 20日 -8.9%

国产光刻机主要受益方,若技术突破则可降低设备采购成本20-30%并加速先进制程扩产,利好方向

A股

688012.SH

中微公司

合作方 · 中敏感5日 — 20日 —

国产半导体设备厂商,光刻机国产化推动整体设备链协同,但其主业为刻蚀设备非光刻